IT之家 2 月 1 日新闻，ASML 总裁兼首席履行官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四序度财报德律风集会上表现，该企业的首台第二代 0.55 (High) NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5200 行将以“晚期东西”的身份发货，用于技巧成熟度验证。▲ EXE:5000 体系EXE:5200 是现有初代 High NA EUV 光刻机 EXE:5000 的改良款，依据 Christophe Fouquet 的说法，该型号“更合适大量量出产”。而 EXE:5000 作为初期版本重要用于 High NA EUV 光刻技巧的开辟。从 ASML 光刻体系的迭代法则来看，EXE:5200 估计将领有更高的晶圆吞吐量（IT之家注：EXE:5000 为每小时 185 片以上），同时支撑更为精致的后 2nm 逻辑半导体工艺。▲ NXE:3800E 体系Christophe Fouquet 还提到，其 0.33 (Low) NA EUV 光刻机的最新型号 NXE:3800E 已在工场实现每小时 220 片的计划晶圆吞吐量，较初期的 185 片进一步晋升，比前一代的 NXE:3600D 已超过 37.5%，充足施展了却构改良带来的上风。